在如今的先进平板印刷方法中，随着LSI电路模型的优化，浸入式ArF平板印刷术已经成为主流，将成为最有保证的下一代技术。作为浸入式ArF平板印刷术的光源――ArF激光器来说，高的产量水平和稳定的光谱性能是最基本的。
GT40A在Gigaphoton的日本总部进行的性能测试表明，它具有稳定的高性能，低的运行成本，而且有着前所未有的可靠性和长的可用时间――所有这些特点足以满足大量生产的平板印刷程序的需求。
半导体行业的光源制造商Gigaphoton公司，宣布了一种新的氟化氩（ArF）准分子激光器――GT40A（发射波长193nm，重复率为4kHz）。这个新模型已经利用平板印刷工具在荷兰Veldhoven的ASML被综合测试和认证。
在如今的先进平板印刷方法中，随着LSI电路模型的优化，浸入式ArF平板印刷术已经成为主流，将成为最有保证的下一代技术。作为浸入式ArF平板印刷术的光源――ArF激光器来说，高的产量水平和稳定的光谱性能是最基本的。
GT40A在Gigaphoton的日本总部进行的性能测试表明，它具有稳定的高性能，低的运行成本，而且有着前所未有的可靠性和长的可用时间――所有这些特点足以满足大量生产的平板印刷程序的需求。
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